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薄膜常见问题(二)
城市：
上海
关键词：
上海展台设计服务公司
新闻分类：
活动策划
日期：
2019-06-05 15:46:10
发布者：
品邦广告
浏览次数：
1426

5、自发成核指的是整个成核过程中原子由气相转变为固相或液相的相变自由能推动下形成的，也称均匀成核。在薄膜和衬底之间侵润性较差的情况下，薄膜的形核过程可以近似的认为是一个自发形核过程。
6、什么是薄膜的附着力，如何提高附着力？
薄膜的附着力是指薄膜对沉底的黏着能力的大小，即薄膜与衬底在化学键合力或物理咬合力作用下的强度。可以通过提高界面的粗糙程度或增加界面的过渡层，还可以通过高能离子的轰击提高表面原子的扩散能力形成有效界面健合，形成扩散层等方法提高附着力。
7、比较分析PVD和CVD沉积技术的优缺点。
CVD的优缺点：
优点：CVD制备所得到的薄膜或材料一般纯度很高，很致密，而且容易形成结晶定向好的材料；能在较低温度下制备难容物质；便于制备各种但是或化合物材料以及各种复合材料。
缺点：需要在高温下反应，基片温度高，沉积速率较低，使用设备复杂，集体难于进行局部沉积，参加反应的源和反应后的余气都有一定的毒性
(PVD需在较低的压力下进行,沉积率几乎100%.CVD在相对较高的压力下进行.PVD具有方向性和阴影效应,CVD薄膜可以被均匀地涂覆在复杂零件的表面上,而较少受到阴影效应的限制.CV可以有效地控制薄膜的化学成分,高的生产效率和低的设备及运行成.与其他相关工艺具有较好的相容性.)

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